Detail Gameplay dan Tiga Karakter Baru di Atelier Escha & Logy

Gust memberikan detail gameplay dan tiga karakter baru di Atelier Escha & Logy: Alchemist of Dusk Sky. Tiga karakter baru tersebut antara lain Awin, Threia, dan Reyfer.

1367284665000

Gust memberikan detail gameplay dan tiga karakter baru di Atelier Escha & Logy: Alchemist of Dusk Sky.  Tiga karakter baru tersebut antara lain Awin, Threia, dan Reyfer.

Awin Sidered (アウィン・サイドレッド) (CV: Kenji Akabane)

Cowok berusia 20 tahun dengan golongan darah B dan tinggi badan 175 cm. Sehari-hari dia bekerja sebagai orang yang merawat balon udara dari departemen teknologi. Penampilannya menarik dengan rambut perak dan kacamatanya, selalu terlihat santai, dan membawa sebuah palu besar ke mana-mana. Dia juga sepupu Escha. Dia sangat terkenal, dan terlihat sering membantu memperbaiki kendaraan pengangkut serta fasilitas umum. Bertanggung jawab terhadap pekerjaan dan memiliki dedikasi tinggi terhadap pekerjaan. Dia sangat kagum dengan sang petualang Reyfer. Escha memanggilnya kakak.

Threia Hazelgrimm (CV: Chiharu Kitaoka)

Cewek berusia 26 tahun dengan tinggi badan 167 cm dan golongan darah B. Proporsi badannya ideal, dipadu dengan rambut peraknya yang berkilau dia terlihat cantik. Dia merupakan seorang ahli dalam sejarah, serta memiliki sedikit pengetahuan mengenai alkimia yang didapatkan dari mempelajari beragam relik peninggalan jaman dulu. Dia juga mampu menangani beragam pekerjaan lapangan yang susah dengan mudah. Senjatanya adalah anting-anting, yang dia gunakan sebagai katalis untuk memperkuat kekuatan analisisnya.

Reyfer Leckberry (レイファー・ラックベリー) (CV: Yasunori Masutani)

Pria berusia 32 tahun dengan golongan darah AB dan tinggi badan 178 cm. Merupakan seorang petualang dan pemburu harta karun yang memiliki penampilan mirip seorang koboi. Dia memiliki rambut pirang dan kumis. Senjatanya yang digunakan untuk bertarung adalah sebuah revolver. Dia selalu bertualang dari satu tempat ke tempat lain, dan terkadang menjelajahi reruntuhan untuk mendapatkan harta karun. Dan sepertinya dia selalu mengetahui tentang hal-hal yang menurutnya menarik.

Hingga enam karakter sekarang bisa turut berpartisipasi dalam pertarungan. Ini artinya, karakter dibagi menjadi dua yakni karakter yang berada di barisan depan (bertempur aktif) dan di barisan belakang. Karakter di barisan belakang bisa memberikan serangan dukungan selama gauge energi yang ada di kanan bawah layar masih terisi. Saat menggunakan serangan dukungan ini, damage yang dihasilkan pun meningkat. Jadi butuh strategi yang tepat untuk melakukannya.

Sebagai dua protagonis utama di game ini, Escha dan Logix sama-sama seorang alchemist, dan mereka berdua juga mampu membuat item saat pertempuran berlangsung. Mereka sama-sama memiliki kemampuan Double Draw, di mana mereka akan menggunakan dua item secara berurutan. Item ini otomatis juga akan meningkat efeknya saat digunakan dengan Double Draw, dan pada kondisi khusus kamu bisa membuat item spesial.

Sedikit detail juga diberikan oleh Rie Murakawa selaku pengisi suara Escha dan Yuuki Tanaka selaku perencana skenario melalui sebuah wawancara. Proses perekaman di game ini sedikit berbeda dengan naime, di mana perkataan satu orang langsung diambil rekamannya menjadi satu. Escha dan Logix memiliki hubungan adik-kakak. Nantinya kamu akan menemui kejadian memorable di mana Escha akan bertindak emosional dengan Logix, yang sepertinya berhubungan dengan masa lalu Logix. Serta nantinya akan ada pertunjukan streaming NicoNama dan konser game ini sedang direncanakan.

Gust akan merilis Atelier Escha & Logy: Alchemist of Dusk Sky untuk PS3 di Jepang pada tanggal 27 Juni 2013.

[nggallery id=521]

[ Sumber : Sokuho@Hokanko, Gematsu (2), Siliconera ]

TENTANG PENULIS
Ryuzen

Pecinta game (terutama RPG) yang dulunya merupakan fans dari Zigma - sekarang adalah Feature Editor Zigma Omega hingga saat ini. Sekarang Reyner telah menjadi apoteker lulusan salah satu fakultas negeri di Surabaya. Selain game, Reyner juga mengikuti update mengenai anime dan manga terbaru, dan juga sedikit melirik dunia gunpla.